В период руководства Патрика Гелсингера, Intel стала ключевым покупателем литографических сканеров высокого разрешения от ASML. Теперь Samsung также нацелилась на приобретение двух таких систем, первая из которых должна поступить до конца года. Согласно информации южнокорейского издания The Korea Economic Daily, Samsung ожидает получить литографический сканер Twinscan EXE:5200B, который позволит проводить эксперименты с высокоапертурной литографией для производства чипов с нормами менее 2 нм.

Компания TSMC, следуя примеру Intel, тестирует аналогичное оборудование, а SK hynix уже установила систему для массового производства. Samsung планирует использовать новые сканеры для создания 2-нм чипов, включая мобильные процессоры Exynos 2600 и AI-процессоры для Tesla. Также в планах — запуск производства DRAM-памяти с инновационной структурой транзисторов VCT к 2027 году, что обещает повысить производительность при снижении энергозатрат. На закупку двух систем Twinscan EXE:5200B Samsung выделит около $773 миллионов, что позволит выпускать чипы с элементами в 1,7 раза меньшего размера по сравнению с текущими EUV-системами. Intel, в свою очередь, рассматривает возможность применения нового оборудования для технологии 14A, однако массовое производство планируется не ранее 2028 года.